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● 超純水專用膜技術(shù)：采用膜表面高分子嫁接技術(shù)，不僅耐酸堿清洗、抗高污染，還可以加快離子遷移速度，使產(chǎn)水TOC在20PPB以下；

● CDI新型電除鹽技術(shù)：采用新型均粒樹脂包填充，雙流道錯流式高頻電子極板模式，有效提高脫鹽率；

● 超潔凈循環(huán)管道技術(shù)：采用新型材料對管道表面進行處理，保證系統(tǒng)運行無污染物析出，確保系統(tǒng)內(nèi)無死水。

● 電子半導(dǎo)體材料、器件、電解電容生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗用水；

● 顯像管、熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管徑的清洗用水；

● 液晶顯示屏生產(chǎn)過程中清洗所用的配液用水；

● 電子芯片生產(chǎn)中，主要用于清洗硅晶元，另有少量用于藥液配制及切割用水；

● 集成電路生產(chǎn)中清洗硅片所用的高純水、高品質(zhì)顯像管、熒光粉生產(chǎn)用水；

● LCD、LED液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏工藝用水；

● 光伏產(chǎn)品晶片切割制造及光電產(chǎn)品生產(chǎn)用水；

● 蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產(chǎn)用水；

● 電鍍、涂裝、汽車、金屬及其他高端精密機械、精微產(chǎn)品表面處理用水；

● 金屬、化工、生物等領(lǐng)域研究所用水；

● 航天、天文、核電等軍工企業(yè)，科研單位生產(chǎn)加工用水。

● GB/T11446.1-1997《中國國家電子級水》

● JB/T7621-1994《電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水》

● GB6682-2008《分析實驗室用水國家標(biāo)準(zhǔn)》

● ASTM-D5127-2007《美國電子學(xué)和半導(dǎo)體工業(yè)用超純水標(biāo)準(zhǔn)》

● GMP認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)